中文版 | English

在结果中检索

Arid

浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助

已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
Production Mask Composition Checking Flow 会议论文
会议名称: Photomask Japan 23rd Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 06-08, 2016
作者:  Ma, Shou-Yuan (Nick);  Yang, Chuen-Huei;  Tsai, Joe;  Wang, Alice;  Lin, Roger;  Lee, Rachel;  Deng, Erwin;  Lin, Ling-Chieh (Jack);  Liao, Hung-Yueh;  Tsai, Jenny;  Bowhill, Amanda;  Vu, Hien;  Russell, Gordon
收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/12/09
Mask data preparation  mask rule check  standard verification rule format  
Production Mask Composition Checking Flow 会议论文
会议名称: Photomask Japan 23rd Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 06-08, 2016
作者:  Ma, Shou-Yuan (Nick);  Yang, Chuen-Huei;  Tsai, Joe;  Wang, Alice;  Lin, Roger;  Lee, Rachel;  Deng, Erwin;  Lin, Ling-Chieh (Jack);  Liao, Hung-Yueh;  Tsai, Jenny;  Bowhill, Amanda;  Vu, Hien;  Russell, Gordon
收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2019/12/09
Mask data preparation  mask rule check  standard verification rule format  
基于MAPGIS的剖面平面图生成系统 期刊论文
发表期刊: 物探化探计算技术. 出版年: 2012, 卷号: 34, 期号: 4, 页码: 490-496
作者:  石岩;  郑圻森;  骆燕;  王红方
收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2019/11/29
MapGIS  Oasis montaj  Visual Basic  mapgis  oasis montaj  data format  profile map  visual basic  
Effectiveness of mask data process using OASIS format 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2005
作者:  Tabara, K;  Sakurai, M;  Makino, S;  Itoh, T;  Okada, T
收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2019/12/07
OASIS  data format  GDSII  data process  processing time  handling time  
Enhancement of unified mask data formats for EB writers 会议论文
会议名称: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology. 会议地点: Monterey, CA. 会议日期: OCT 14-17, 2004
作者:  Suzuki, T;  Hirumi, J;  Yoshioka, N;  Hojyo, Y;  Kawase, Y;  Sakamoto, S;  Kuriyama, K;  Narukawa, S;  Houga, M
收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/07
MDP  data format  GDSII  NEO  MALY  VSB  OASIS  OASIS.NEO  
OASIS - based unification of mask data representation 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 14-16, 2004
作者:  Sahouria, E;  Schulze, S
收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/12/07
GDSII stream  OASIS  integrated circuit layout  mask making  photomask  data format  variable shaped beam  
Processing of DMSP magnetic data: Handbook of programs, tapes, and datasets 科技报告
报告编号: NASA-TM-100757, REPT-90-076, NAS 1.15:100757, AD-B142688L, GL-TR-90-0051. 出版年: 1990
作者:  Langel, R. A.;  Sabaka, T. J.;  Ridgway, J. R.
收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/11/30
DATA BASES  DATA PROCESSING  DMSP SATELLITES  GEOPHYSICS  HANDBOOKS  MAGNETIC FIELDS  ALGORITHMS  FORMAT  FOURIER ANALYSIS  MAGNETOMETERS  MAGSAT SATELLITES  SIGNAL TO NOISE RATIOS  SPHERICAL HARMONICS