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Aqueous based single wafer Cu/low-k cleaning process characterization and integration into dual damascene process flow 期刊论文
发表期刊: ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES VII. 出版年: 2005, 页码: 353-356
作者:  Tang, JS;  Brown, BJ;  Verhaverbeke, S;  Chen, HW;  Papanu, J;  Hung, R;  Cai, C;  Yost, D
收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2019/11/28
single wafer clean  electromigration  Cu/low-k  
Aqueous based single wafer Cu/low-k cleaning process characterization and integration into dual damascene process flow 会议论文
会议名称: 7th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces. 会议地点: Brussels, BELGIUM. 会议日期: SEP 20-22, 2004
作者:  Tang, JS;  Brown, BJ;  Verhaverbeke, S;  Chen, HW;  Papanu, J;  Hung, R;  Cai, C;  Yost, D
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/07
single wafer clean  electromigration  Cu/low-k  
Metallic contamination removal evaluation for single wafer processing 期刊论文
发表期刊: ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES V. 出版年: 2003, 卷号: 92, 页码: 49-52
作者:  Boelen, P;  Verhaverbeke, S;  Garnier, P;  Levy, D;  Morinaga, H
收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/11/28
metallic contamination  single wafer cleaning  chelating agent  
Surfactant selection for AM clean in a single wafer Oasis Wet System 期刊论文
发表期刊: ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES V. 出版年: 2003, 卷号: 92, 页码: 57-61
作者:  Baker, J;  Beaudry, C;  Morinaga, H;  Verhaverbeke, S
收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2019/11/28
surfactant  RCA  single  wafer  Oasis  and SC-1  
Metallic contamination removal evaluation for single wafer processing 会议论文
会议名称: 5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces. 会议地点: OOSTENDE, BELGIUM. 会议日期: SEP 16-18, 2002
作者:  Boelen, P;  Verhaverbeke, S;  Garnier, P;  Levy, D;  Morinaga, H
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/07
metallic contamination  single wafer cleaning  chelating agent  
Surfactant selection for AM clean in a single wafer Oasis Wet System 会议论文
会议名称: 5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces. 会议地点: OOSTENDE, BELGIUM. 会议日期: SEP 16-18, 2002
作者:  Baker, J;  Beaudry, C;  Morinaga, H;  Verhaverbeke, S
收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/07
surfactant  RCA  single  wafer  Oasis  and SC-1