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Arid

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The unified mask data format based on OASIS for VSB EB writers 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2005
作者:  Suzuki, T;  Hirumi, J;  Hojyo, Y;  Kawase, Y;  Sakamoto, S;  Kuriyama, K;  Narukawa, S;  Hoga, M
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GDSII  MDP  EB  VSB  OASIS  EDA  RET  
Evaluation of mask data preparation with OASIS and P10 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2005
作者:  Kuriyama, K;  Machiya, Y;  Yamasaki, K;  Narukawa, S;  Hayashi, N
收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/12/07
OASIS  PIO  MDP  jobdeck  HOTSCOPE  
Enhancement of unified mask data formats for EB writers 会议论文
会议名称: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology. 会议地点: Monterey, CA. 会议日期: OCT 14-17, 2004
作者:  Suzuki, T;  Hirumi, J;  Yoshioka, N;  Hojyo, Y;  Kawase, Y;  Sakamoto, S;  Kuriyama, K;  Narukawa, S;  Houga, M
收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/07
MDP  data format  GDSII  NEO  MALY  VSB  OASIS  OASIS.NEO