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Surfactant selection for AM clean in a single wafer Oasis Wet System 期刊论文
发表期刊: ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES V. 出版年: 2003, 卷号: 92, 页码: 57-61
作者:  Baker, J;  Beaudry, C;  Morinaga, H;  Verhaverbeke, S
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surfactant  RCA  single  wafer  Oasis  and SC-1  
Surfactant selection for AM clean in a single wafer Oasis Wet System 会议论文
会议名称: 5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces. 会议地点: OOSTENDE, BELGIUM. 会议日期: SEP 16-18, 2002
作者:  Baker, J;  Beaudry, C;  Morinaga, H;  Verhaverbeke, S
收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/07
surfactant  RCA  single  wafer  Oasis  and SC-1