中文版 | English

在结果中检索

Arid

浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助

已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
High Speed Mask Inspection Data Prep Flow based on Pipelining 会议论文
会议名称: 31st International Symposium on Photomask Technology. 会议地点: Monterey, CA. 会议日期: SEP 19-22, 2011
作者:  Hung, Dan;  Morales, Domingo;  Canepa, Juan Pablo;  Kim, Stephen;  Liu, Po;  Sier, Jean-Paul;  LoPresti, Patrick
收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2019/12/09
mask inspection  mask inspection data preparation  MDP  OASIS.MASK  pipeline flow  I/O bottlenecks  
High Speed Mask Inspection Data Prep Flow based on Pipelining 会议论文
会议名称: 31st International Symposium on Photomask Technology. 会议地点: Monterey, CA. 会议日期: SEP 19-22, 2011
作者:  Hung, Dan;  Morales, Domingo;  Canepa, Juan Pablo;  Kim, Stephen;  Liu, Po;  Sier, Jean-Paul;  LoPresti, Patrick
收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2019/12/09
mask inspection  mask inspection data preparation  MDP  OASIS.MASK  pipeline flow  I/O bottlenecks  
Large Scale Flash Memory System (LSFMS) For Photomask Defect Inspection Machine 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2010
作者:  Yamamoto, Satoshi;  Pai, Ravi;  Ranade, Manish;  Mondal, Soumen;  Prabhu, Sundeep;  Kurosaki, Gen
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/09
Mask Inspection  Defect Inspection  OASIS. MASK  MALY  Data Preparation  flash memory  SD card  
Large Scale Flash Memory System (LSFMS) For Photomask Defect Inspection Machine 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2010
作者:  Yamamoto, Satoshi;  Pai, Ravi;  Ranade, Manish;  Mondal, Soumen;  Prabhu, Sundeep;  Kurosaki, Gen
收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2019/12/09
Mask Inspection  Defect Inspection  OASIS. MASK  MALY  Data Preparation  flash memory  SD card  
Die-to-database mask inspection with variable sensitivity 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 16-18, 2008
作者:  Tsuchiya, Hideo;  Tokita, Masakazu;  Nomura, Takehiko;  Inoue, Tadao
收藏  |  浏览/下载：49/0  |  提交时间：2019/12/07
die-to-database  inspection  review  Mask Data Rank  design intent  OASIS  layout analysis  
DFM for maskmaking: Design-aware flexible mask-defect analysis - art. no. 67300O 会议论文
会议名称: 27th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology. 会议地点: Monterey, CA. 会议日期: SEP 18-21, 2007
作者:  Driessen, Frank A. J. M.;  Westra, J.;  Scheffer, M.;  Kawakami, K.;  Tsujimoto, E.;  Yamaji, M.;  Kawashima, T.;  Hayashi, N.
收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2019/12/07
DFM  criticality awareness  flexible mask repair  defect analysis  defect inspection  reticle manufacturing  
Data exploder for Variable Shaped Beam exposure - art. no. 66070W 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 17-19, 2007
作者:  Nogatch, John;  Kirsch, Hartmut;  Shi, Jun
收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/12/07
Data Exploder  inspection  Mask Data Preparation (MDP)  OASIS.VSB  Variable Shaped Beam (VSB)