中文版 | English

在结果中检索

Arid

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助

已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
Metallic contamination removal evaluation for single wafer processing 期刊论文
发表期刊: ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES V. 出版年: 2003, 卷号: 92, 页码: 49-52
作者:  Boelen, P;  Verhaverbeke, S;  Garnier, P;  Levy, D;  Morinaga, H
收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/11/28
metallic contamination  single wafer cleaning  chelating agent  
Metallic contamination removal evaluation for single wafer processing 会议论文
会议名称: 5th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces. 会议地点: OOSTENDE, BELGIUM. 会议日期: SEP 16-18, 2002
作者:  Boelen, P;  Verhaverbeke, S;  Garnier, P;  Levy, D;  Morinaga, H
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/07
metallic contamination  single wafer cleaning  chelating agent