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Arid

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Effectiveness of mask data process using OASIS format 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2005
作者:  Tabara, K;  Sakurai, M;  Makino, S;  Itoh, T;  Okada, T
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OASIS  data format  GDSII  data process  processing time  handling time