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Arid

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TRG-OES measurements of electron temperatures during fluorocarbon plasma etching of SiO2 damage test wafers 会议论文
会议名称: 6th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage (P2ID). 会议地点: MONTEREY, CA. 会议日期: MAY 13-15, 2001
作者:  Schabel, MJ;  Donnelly, VM;  Cheung, KP;  Kornblit, A;  Layadi, N;  Tai, WW
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