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Arid

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Comparison of verification methods for OASIS files: Hierarchical or flat? 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 16-18, 2008
作者:  Kato, Kokoro;  Taniguchi, Yoshiyuki;  Endo, Masakazu;  Nishizawa, Kuninori;  Inoue, Tadao;  Fujii, Toshiaki
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Fast file size estimation of mask data conversion from OASIS to GDS2 - art. no. 66072P 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 17-19, 2007
作者:  Endo, Masakazu;  Taniguchi, Yoshiyuki;  Nishizawa, Kuninori;  Kato, Kokoro
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Advanced mask rule check (MRC) tool 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 18-20, 2006
作者:  Kato, Kokoro;  Nishizawa, Kuninori;  Inoue, Tadao;  Kuriyama, Koki;  Suzuki, Toshio;  Narukawa, Shogo;  Hay, Naoya
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From GDSII to OASIS: Practical support tools for data processing flow transition 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 18-20, 2006
作者:  Endo, Masakazu;  Nishizawa, Kuninori;  Kato, Kokoro
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