中文版 | English

在结果中检索

Arid

浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助

限定条件        
已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
Fast file size estimation of mask data conversion from OASIS to GDS2 - art. no. 66072P 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 17-19, 2007
作者:  Endo, Masakazu;  Taniguchi, Yoshiyuki;  Nishizawa, Kuninori;  Kato, Kokoro
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/07
From GDSII to OASIS: Practical support tools for data processing flow transition 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 18-20, 2006
作者:  Endo, Masakazu;  Nishizawa, Kuninori;  Kato, Kokoro
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/07