Arid
基于柔性基底的高耐用性超亲水集水流道结构的制备方法
申请日2017-12-18
申请号CN201711367562.X
申请公布日2018-05-29
授权公告日2019-06-18
授权公告号CN108085652B
专利类型授权发明
授权国家中国
摘要本发明属于柔性微纳结构的制造工艺领域,并公开了基于柔性基底的高耐用性超亲水集水流道结构的制备方法,包括以下步骤:1)光刻和显影;2)去残胶及活化柔性基底表面;3)镀Cu种子层:采用磁控溅射在柔性基底的上表面、负性光刻胶的上表面和侧面溅射Cu种子层;4)去除光刻胶;5)生长Cu(OH)2纳米线和CuO纳米片分层结构:将沉积有Cu种子层的柔性基底放在NaOH和(NH4)2S2O8的混合溶液中,以在Cu种子层上进行超亲水Cu(OH)2纳米线和CuO纳米片分层结构的生长,从而获得超亲水集水流道结构。本方法所制备的结构具有超亲水特性和优异的柔性耐用性,适用于干旱区域的水汽收集,有望用于沙漠中的集水装置。
廖广兰; 林建斌; 谭先华; 史铁林; 汤自荣
专利权人华中科技大学
IPC 分类号C23C14/35 ; C23C14/20 ; C23C14/04 ; C23C14/58 ; C23C22/63
国民经济行业分类C3441
专利有效性有效
代理机构华中科技大学专利中心
资源类型专利
条目标识符http://119.78.100.177/qdio/handle/2XILL650/382763
推荐引用方式
GB/T 7714
廖广兰,林建斌,谭先华,等. 基于柔性基底的高耐用性超亲水集水流道结构的制备方法[P]. 2019-06-18.
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