Arid
一种治理浅层地下水污染的系统
申请日2017-11-06
申请号CN201721468001.4
授权公告日2018-08-03
授权公告号CN207685013U
专利类型实用新型
授权国家中国
摘要本实用新型公开了一种治理浅层地下水污染的系统,包括建在地下水污染地区场址的渗透库和设置在渗透库库底的将治理后的地下水从库内抽出水泵,在渗透库库底及库周边坡上覆盖有填充介质层,填充介质层由从上到下厚度为15~50cm的灰岩碎石层、厚度为15~50cm的活性炭层、厚度为15~50cm的沸石和合成离子交换树脂层组成。施工方法包括场地选址、渗透库开挖、边坡及基础处理、填充介质、沉淀物去除、回灌地下。本实用新型施工简单,技术难度较低,治理地下水范围广,将治理后地下水抽出后回灌到地下,可以维持干旱半干旱地区地下水资源的可持续循环利用,对浅层地下水污染治理具有高效、经济的特点。
苏岩; 张杰; 安宇天; 葛鹏; 何昱璇; 孟壮; 张莉颖; 王玉双
专利权人中国电建集团北京勘测设计研究院有限公司
IPC 分类号C02F9/04 ; E02B3/12 ; C02F103/06
国民经济行业分类D4690 ; C1522 ; C4021 ; C2666 ; D4630 ; D4620 ; D4610 ; C3591
专利有效性有效
代理机构天津市鼎和专利商标代理有限公司
资源类型专利
条目标识符http://119.78.100.177/qdio/handle/2XILL650/382396
推荐引用方式
GB/T 7714
苏岩,张杰,安宇天,等. 一种治理浅层地下水污染的系统[P]. 2018-08-03.
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