干旱区生态环境知识资源中心(Arid): 基于MODIS数据研究黄河中上游区域地下水对地表植被影响的方法

Arid

	基于MODIS数据研究黄河中上游区域地下水对地表植被影响的方法
其他题名	Research on the influence of groundwater on vegetation development in the upper-middle reaches of the Yellow River based on MODIS sensing data
	田凯; 李小青; 康相武; 霍艾迪
来源期刊	高技术通讯
ISSN	1002-0470
出版年	2009
卷号	19 期号:11 页码:1201-1205
中文摘要	从MODIS影像数据中提取归一化差值植被指数(NDVI)和条件植被覆盖率(VCR),并将其与研究区域内的相同空间位置实测地下水数据进行对比分析,在此基础上对黄河中上游区域适宜于植被生长的地下水位埋深进行了研究.结果表明:研究区适宜于植被生长的地下水位埋深范围为0.8～4.5m,最佳水位是1.2m.在干旱地区,在研究大尺度地下水与地表植被环境关系上,用此研究方法可取得较好的效果.
英文摘要	The authors of the paper extracted the normalized difference vegetation index ( NDVI) and the vegetation conditional ratio (VCR) from the MODIS images, and analyzed the relationship among NDVI, VCR and the measured data of groundwater of the same location in the research region. Based on this, the depth of groundwater suitable for vegetation growing in the upper-middle reaches of the Yellow River was calculated. The results showed that the depth of groundwater suitable for vegetation growing in the research region ranges from 0. 8m to 4. 5m, and the most suitable groundwater depth is 1.2m. The method developed in this study is suitable for researching the relationship between large-scale groundwater and land surface vegetation environment in the arid area.
中文关键词	遥感 ; 归一化差值植被指数(NDVI) ; 条件植被覆盖率(VCR) ; 地下水 ; 黄河中上游地区
英文关键词	remote sensing normalized difference vegetation index (NDVI) vegetation conditional ratio (VCR) groundwater upper-middle reaches of Yellow River
类型	Article
语种	中文
国家	中国
收录类别	CSCD
WOS类目	Computer Science
WOS研究方向	Computer Science
CSCD记录号	CSCD:3700929
资源类型	期刊论文
条目标识符	http://119.78.100.177/qdio/handle/2XILL650/223738
作者单位	田凯, 华中科技大学土木工程与力学学院, 武汉, 湖北 430074, 中国.; 李小青, 华中科技大学土木工程与力学学院, 武汉, 湖北 430074, 中国.; 康相武, 中国科学技术信息研究所, 北京 100038, 中国.; 霍艾迪, 长安大学环境科学与工程学院, 西安, 陕西 710054, 中国.
推荐引用方式 GB/T 7714	田凯,李小青,康相武,等. 基于MODIS数据研究黄河中上游区域地下水对地表植被影响的方法[J],2009,19(11):1201-1205.
APA	田凯,李小青,康相武,&霍艾迪.(2009).基于MODIS数据研究黄河中上游区域地下水对地表植被影响的方法.高技术通讯,19(11),1201-1205.
MLA	田凯,et al."基于MODIS数据研究黄河中上游区域地下水对地表植被影响的方法".高技术通讯 19.11(2009):1201-1205.