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Arid

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Development of ultra-precision tools for metrology and lithography of large area photomasks and high definition displays 学位论文
学位授予机构: KTH, Mätteknik och optik, Stockholm. 出版年: 2013
作者:  Ekberg;Lars Peter
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/11/29
Ultra precision 2D metrology  LCD-display  OLED-display  Nm-resolution  Random phase measurement  Large area  Photomask  Acousto-optic deflection  Self-calibration  Z-correction  Absolute accuracy  Uncertainty.  
Ultra precision metrology : the key for mask lithography and manufacturing of high definition displays 学位论文
学位授予机构: KTH, Mätteknik och optik, Stockholm : KTH Royal Institute of Technology. 出版年: 2011
作者:  Ekberg;Peter
收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2019/11/29
Ultra precision metrology  LCD-display  OLED-display  Nm-resolution  Large area  Random phase measurement  Acousto-optic deflection  Scanning  2D measurement  Mask  CCD  CMOS  Image processing  Edge detection  TECHNOLOGY  TEKNIKVETENSKAP  Manufacturing engineering  Produktionsteknik