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DFM for maskmaking: Design-aware flexible mask-defect analysis - art. no. 67300O 会议论文
会议名称: 27th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology. 会议地点: Monterey, CA. 会议日期: SEP 18-21, 2007
作者:  Driessen, Frank A. J. M.;  Westra, J.;  Scheffer, M.;  Kawakami, K.;  Tsujimoto, E.;  Yamaji, M.;  Kawashima, T.;  Hayashi, N.
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DFM  criticality awareness  flexible mask repair  defect analysis  defect inspection  reticle manufacturing