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Arid

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MTO-like reference mask modeling for advanced inverse lithography technology patterns 会议论文
会议名称: Photomask Japan 24th Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 05-07, 2017
作者:  Park, Jongju;  Moon, Jongin;  Son, Suein;  Chung, Donghoon;  Kim, Byung-Gook;  Jeon, Chan-Uk;  LoPresti, Patrick;  Xue, Shan;  Wang, Sonny;  Broadbent, Bill;  Kim, Soonho;  Hur, Jiuk;  Choo, Min
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/09
Photomask inspection  Pre-inspection data processing  OASIS  advanced ILT  
MTO-like reference mask modeling for advanced inverse lithography technology patterns 会议论文
会议名称: Photomask Japan 24th Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 05-07, 2017
作者:  Park, Jongju;  Moon, Jongin;  Son, Suein;  Chung, Donghoon;  Kim, Byung-Gook;  Jeon, Chan-Uk;  LoPresti, Patrick;  Xue, Shan;  Wang, Sonny;  Broadbent, Bill;  Kim, Soonho;  Hur, Jiuk;  Choo, Min
收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2019/12/09
Photomask inspection  Pre-inspection data processing  OASIS  advanced ILT