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Diagnostic-driven yield engineering under atypical wafer foundry conditions 期刊论文
发表期刊: MICROELECTRONICS RELIABILITY. 出版年: 2021, 卷号: 119
作者:  Ngow, Y. T.;  Goh, S. H.
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2021/07/30
Root Cause Deconvolution (RCD)  Tessent Yield Insight (TYI)  Set of unique  Graphic Database System (GDS)  Open Artwork System Interchange Standard (OASIS)  Scan diagnosis  User-Defined Online Search (UDOS)  KDB (conversion of GDS information in to Avalon database)  Synopsys Avalon  
Automated nets extraction for digital logic physical failure analysis on IP-secure products 会议论文
会议名称: IEEE International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits (IPFA). 会议地点: Singapore, SINGAPORE. 会议日期: JUL 20-23, 2020
作者:  Ngow, Y. T.;  Goh, S. H.;  Leo, J.;  Low, H. W.;  Kamoji, Rupa
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2021/08/05
Graphic Database System (GDSII)  Open Artwork System Interchange Standard (OASIS)  Scan Diagnosis  User-Defined Online Search (UDOS)  Tool Command Language (TCL)  KDB (Conversion of GDSII information in to Synopsys Avalon Database)  KTMask Command (Program to send commands to the Synopsys Avalon MaskView tool)  
Lossless compression algorithm for hierarchical IC layout data 会议论文
会议名称: Conference on Optical Microlithography XX. 会议地点: San Jose, CA. 会议日期: FEB 27-MAR 02, 2007
作者:  Gu, Allan;  Zakhor, Avideh
收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/07
layout compression  algorithms  sub-cell detection  hierarchy  post-OPC layout  OASIS  
Making of P10-JOBDECK with OASIS and GDS-II fit for practical use 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 17-19, 2007
作者:  Mori, Masayoshi;  Narukawa, Shogo;  Yamazaki, Kiyoshi;  Hosono, Kunihiro
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/07
SEMI P10  JOBDECK  SEMI P39  OASIS  GDS-II  HOTSCOPE  
Fast file size estimation of mask data conversion from OASIS to GDS2 - art. no. 66072P 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIV. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 17-19, 2007
作者:  Endo, Masakazu;  Taniguchi, Yoshiyuki;  Nishizawa, Kuninori;  Kato, Kokoro
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/07
Compressible area fill synthesis 期刊论文
发表期刊: IEEE TRANSACTIONS ON COMPUTER-AIDED DESIGN OF INTEGRATED CIRCUITS AND SYSTEMS. 出版年: 2005, 卷号: 24, 期号: 8, 页码: 1169-1187
作者:  Chen, Y;  Kahng, AB;  Robins, G;  Zelikovsky, A;  Zheng, YH
收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/11/28
dummy fill  fill data compression  GDSII AREF  greedy method  OASIS repetitions  VLSI manufacturability  
Effectiveness of mask data process using OASIS format 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2005
作者:  Tabara, K;  Sakurai, M;  Makino, S;  Itoh, T;  Okada, T
收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/07
OASIS  data format  GDSII  data process  processing time  handling time  
Evaluation of mask data preparation with OASIS and P10 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 13-15, 2005
作者:  Kuriyama, K;  Machiya, Y;  Yamasaki, K;  Narukawa, S;  Hayashi, N
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/07
OASIS  PIO  MDP  jobdeck  HOTSCOPE  
An agile mask data preparation and writer dispatching approach 会议论文
会议名称: Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI. 会议地点: Yokohama, JAPAN. 会议日期: APR 14-16, 2004
作者:  Hsua, CT;  Chen, YS;  Hsin, SC;  Tuo, LC;  Schulze, S
收藏  |  浏览/下载：0/0  |  提交时间：2019/12/07
GDSII  OASIS  mask data preparation  
Evaluation of the new OASIS format for layout fill compression 会议论文
会议名称: 11th IEEE International Conference on Electronics, Circuits and Systems. 会议地点: Tel Aviv, ISRAEL. 会议日期: DEC 13-15, 2004
作者:  Chen, Y;  Kahng, AB;  Robins, G;  Zelikovsky, A;  Zheng, YH
收藏  |  浏览/下载：0/0  |  提交时间：2019/12/07